Motortrykksensor 2CP3-68 1946725 for Carter gravemaskin

Fremgangsmåte for fremstilling av en trykksensor, karakterisert ved å omfatte følgende trinn:

S1, tilveiebringer en wafer med en bakside og en frontflate;Dannelse av en piezoresistiv stripe og et sterkt dopet kontaktområde på den fremre overflaten av waferen;Dannelse av et trykk dypt hulrom ved å etse bakoverflaten av waferen;

S2, liming av et støtteark på baksiden av waferen;

S3, produserer blyhull og metalltråder på forsiden av waferen, og kobler piezoresistive strimler for å danne en Wheatstone-bro;

S4, avsetning og dannelse av et passiveringslag på den fremre overflaten av skiven, og åpning av en del av passiveringslaget for å danne et metallputeområde.2. Fremgangsmåten for fremstilling av trykksensoren ifølge krav 1, hvori S1 spesifikt omfatter følgende trinn: S11: å tilveiebringe en wafer med en bakoverflate og en frontoverflate, og definere tykkelsen av en trykkfølsom film på waferen;S12: Ioneimplantasjon brukes på forsiden av waferen, piezoresistive strimler er produsert ved en høytemperaturdiffusjonsprosess, og kontaktområdene er sterkt dopet;S13: avsetning og dannelse av et beskyttende lag på forsiden av waferen;S14: etsing og dannelse av et trykkdypt hulrom på baksiden av waferen for å danne en trykkfølsom film.3. Fremgangsmåten for fremstilling av trykksensoren ifølge krav 1, hvori skiven er SOI.

I 1962 ble Tufte et al.produserte en piezoresistiv trykksensor med diffust silisium piezoresistive strimler og silisiumfilmstruktur for første gang, og begynte forskningen på piezoresistiv trykksensor.På slutten av 1960-tallet og begynnelsen av 1970-tallet brakte utseendet til tre teknologier, nemlig silisium anisotropisk etseteknologi, ioneimplantasjonsteknologi og anodisk bindingsteknologi, store endringer i trykksensoren, som spilte en viktig rolle i å forbedre ytelsen til trykksensoren .Siden 1980-tallet, med videreutvikling av mikromaskinteknologi, som anisotropisk etsing, litografi, diffusjonsdoping, ioneimplantasjon, binding og belegg, har størrelsen på trykksensoren blitt kontinuerlig redusert, følsomheten er forbedret, og utgangen er høy og ytelsen er utmerket.Samtidig gjør utviklingen og anvendelsen av ny mikromaskinteknologi filmtykkelsen til trykksensoren nøyaktig kontrollert.